美國芯片制造商美光科技(Micron Technology)首席商務(wù)官蘇密特-薩達納告訴日經(jīng)新聞，該公司將于今年年底前在它的廣島工廠開始大規(guī)模生產(chǎn)先進的DRAM內(nèi)存芯片。美光公司已經(jīng)宣布計劃開始在臺灣省使用其所謂的"1-beta"技術(shù)生產(chǎn)動態(tài)隨機存取存儲器。
薩達納在接受采訪時說，該公司正在與日本政府和設(shè)備制造商等商業(yè)伙伴進行協(xié)調(diào)，以便在日本也開始生產(chǎn)。他沒有透露廣島工廠的投資規(guī)模，但他說制造這種芯片通常需要新的設(shè)備和潔凈室。預計美光將根據(jù)政府補貼和其他因素來決定其投資規(guī)模。
1α制程DRAM的存儲器容量較前一代（1z制程）提高40%，推出時震撼業(yè)界，未來存儲器創(chuàng)新奠定絕佳基礎(chǔ)，而1beta是1alpha的改良版。預計它將被納入高端智能手機和其他高性能設(shè)備中。據(jù)悉，美光日本廣島工廠是其在2013年收購爾必達(ELPIDA)時取得，之后就積極進行投資，目前廣島工廠廠區(qū)內(nèi)已無增設(shè)廠房的空間。
薩達納說，在日本生產(chǎn)有許多積極因素，比如該國成熟的半導體產(chǎn)業(yè)和廣島的人才庫。他說，美光打算繼續(xù)在日本生產(chǎn)最先進的芯片。
美光公司在2021年宣布，計劃在未來十年在全球范圍內(nèi)投資1500億美元用于內(nèi)存制造和研發(fā)。隨著該公司制定了1-beta的生產(chǎn)計劃，行業(yè)觀察家們正在關(guān)注它將在哪里生產(chǎn)下一代的1-gamma DRAM，該產(chǎn)品的目標是在2024年進行大規(guī)模生產(chǎn)。
1-gamma生產(chǎn)使用極紫外光刻技術(shù)，它是一種對制造最細小的電路圖案至關(guān)重要的技術(shù)。美光公司將于今年晚些時候在其位于臺灣省臺中的工廠引進EUV工具。首席執(zhí)行官桑杰-梅羅特拉在5月底的臺北電腦展上通過視頻表明了這一意向。
薩達納在日經(jīng)新聞采訪中沒有說美光是否計劃在日本生產(chǎn)1-gamma DRAM。參與這一尖端工藝，將是日本半導體行業(yè)供應(yīng)商的福音。
美光研發(fā)部在美國，制造基地主要在中國臺灣地區(qū)和日本廣島。目前美光正積極在日本擴建DRAM新廠，投資總額預估達6000億至8000億日元，預期日本政府將提供資金援助，未來十年在全球投資1500億美元。